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HPMA [2011/3/25 13:42:00] |
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| HPMA通常以1～15mg/L与有机膦酸盐复合，用于循环冷却水处理及低压锅炉的炉内处理，具有良好的抑制水垢生成和剥离老垢的作用，阻垢率可达98%，EDTMPS与... |
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PAA [2011/3/25 13:41:00] |
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| PAA常与其他水处理剂组成配方使用， PAA具体配方及用量根据现场水质及设备材质情况由试验而定。PAA单独使用，一般使用浓度为1～15mg/L。PAA在其它行业... |
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DTPMPA [2011/3/25 13:41:00] |
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| DTPMPA作阻垢剂一般使用浓度1～30mg/L，作清洗剂一般使用浓度1000～2000mg/L；通常与聚羧酸型阻垢分散剂配合使用。在其他行业使用时，应根据试验... |
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EDTMPS [2011/3/25 13:40:00] |
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| 在循环冷却水中单独投加时，一般剂量2～10mg/L。EDTMPS与HPMA按1:3比例复配后，可用于低压锅炉炉内水处理。EDTMPS也可与BTA、PAAS、锌盐... |
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HEDP [2011/3/25 13:39:00] |
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| HEDP作阻垢剂一般使用浓度1～10mg/L，作缓蚀剂一般使用浓度10-50mg/L；作清洗剂一般使用浓度1000～2000mg/L；通常与聚羧酸型阻垢分散剂配... |
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ATMP [2011/3/25 13:38:00] |
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| ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸变作用。可阻止水中成垢盐类形成水垢，特别是碳酸钙垢的形成。
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